特許

J-GLOBAL ID：200903020759913465

レジストパターン

発明者： 田中 稔彦 ,  森上 光章
出願人/特許権者： 株式会社ソルテック
代理人 (1件)： 吉原 省三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-201879
公開番号（公開出願番号）：特開平6-029211
出願日： 1992年07月07日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：

【要約】【目的】 リソグラフィにより形成される規則的に配列された微細な密集レジストパターンにおけるパターン倒れを防止し、製品歩留りを向上せんとするものである。【構成】 主パターン2a〜2fの両サイドにダミーパターン6a及び6bを配する。

請求項（抜粋）：

主パターン形成領域の周囲にダミーパターンを配したことを特徴とするレジストパターン。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/26

FI (2件)：

H01L 21/30 361 Z ,  H01L 21/30 301 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-060547
  
• 特開平4-130709