特許

J-GLOBAL ID：200903020765594576

露光装置及びデバイス製造方法

発明者： 長谷川 敬恭
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-219032
公開番号（公開出願番号）：特開2007-142366
出願日： 2006年08月10日
公開日（公表日）： 2007年06月07日
要約：

【課題】スループット、露光精度及び経済性に優れた露光装置を提供する。【解決手段】レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系と前記被処理体との間に供給される液体を介して、前記被処理体を露光する露光装置であって、前記液体の広がりを抑制するために前記液体の周囲に気体を供給する2つの気体供給口を有するエアカーテン形成手段を有し、前記2つの気体供給口は、それぞれ異なる気体を供給することを特徴とする露光装置を提供する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系と前記被処理体との間に供給される液体を介して、前記被処理体を露光する露光装置であって、 前記液体の広がりを抑制するために前記液体の周囲に気体を供給する2つの気体供給口を有するエアカーテン形成手段を有し、 前記2つの気体供給口は、それぞれ異なる気体を供給することを特徴とする露光装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L21/30 502D

Fターム (4件)：

5F046CB01 ,  5F046DA12 ,  5F046DA27 ,  5F046DA30

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 国際公開第99/49504号パンフレット
  
• 国際公開第2004/086470号パンフレット
  
• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-417259   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ