特許
J-GLOBAL ID:200903020775366105

密着印刷法における版離れ速度決定方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長門 侃二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-277415
公開番号(公開出願番号):特開平5-111994
出願日: 1991年10月24日
公開日(公表日): 1993年05月07日
要約:
【要約】【目的】 密着印刷法における版離れ速度を経験によることなく、客観的な方法によって決定することができ、作業上の無駄のない密着印刷法における版離れ速度決定方法を提供する。【構成】 印刷パターンが穿孔された印刷マスクの上面をスキージングすることにより、回路基板の所要箇所にクリーム半田を印刷した後、回路基板を印刷マスクから版離れさせる際の版離れ速度を決定する密着印刷法における版離れ速度決定方法。印刷マスクの撓み量MR とクリーム半田の伸び量SR とを計測手段により測定し、両測定結果に基づいて回路基板の印刷マスクからの版離れ速度を決定する。
請求項(抜粋):
印刷パターンが穿孔された印刷マスクの上面をスキージングすることにより、回路基板の所要箇所にクリーム半田を印刷した後、前記回路基板を前記印刷マスクから版離れさせる際の版離れ速度を決定する密着印刷法における版離れ速度決定方法において、前記印刷マスクの撓み量と前記クリーム半田の伸び量とを計測手段により測定し、両測定結果に基づいて前記回路基板の前記印刷マスクからの版離れ速度を決定することを特徴とする密着印刷法における版離れ速度決定方法。
IPC (4件):
B41F 15/08 303 ,  B41F 15/00 ,  H05K 3/34 ,  H05K 3/12

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