特許
J-GLOBAL ID：200903020776251140
オゾン水製造装置のオゾン水濃度制御装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-186926
公開番号（公開出願番号）：特開平6-031286
出願日： 1992年07月14日
公開日（公表日）： 1994年02月08日
要約：
【要約】【目的】 処理槽の負荷に応じたオゾン水を製造することを可能とする。【構成】 オゾナイザ4で発生させたオゾンガスと水とを混合させて、オゾン水処理槽10に供給するオゾン水を製造する装置において、上記処理槽10に、オゾン水のオゾン濃度を計測する濃度センサ13を設けると共に、このセンサ13からの計測値に基づいて上記オゾナイザ4への電力を位相制御して処理槽10内のオゾン水濃度を所定の値に維持する制御器14を設けたことを特徴としている。
請求項（抜粋）：
オゾナイザで発生させたオゾンガスと水とを混合させて、オゾン水処理槽に供給するオゾン水を製造する装置において、上記処理槽に、オゾン水のオゾン濃度を計測する濃度センサを設けると共に、該センサからの計測値に基づいて上記オゾナイザへの電力を位相制御して処理槽内のオゾン水濃度を所定の値に維持する制御器を設けたことを特徴とするオゾン水製造装置のオゾン水濃度制御装置。
IPC (5件)：
C02F 1/78
, A61L 2/18
, A61L 2/20
, B01F 1/00
, C01B 13/11
