特許

J-GLOBAL ID：200903020779020386

中性子照射装置

発明者： 井田 瑞穂
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-333807
公開番号（公開出願番号）：特開平7-191198
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年07月28日
要約：

【要約】【目的】 液体リチウム等のターゲット物質に荷電粒子を打ち込んで出射させた中性子を試験体に照射するに際し、ターゲット物質が過熱して沸騰してしまうことを防止し得て中性子を継続的に出射させ得る装置を提供する。【構成】 反応槽内においてターゲット物質(液体リチウム)1を膜状態で流下させ、加速した重陽子等の荷電粒子dを反応槽に入射させてターゲット物質に対して打ち込み、それらターゲット物質と荷電粒子とにより核反応を生ぜしめて中性子nを反応槽の前方に出射させ、それを試験体10に照射するようになす。ターゲット物質に対する荷電粒子の打ち込み点を周期的に変化させるために、反応槽に入射させる荷電粒子の軌道を周期的に揺動させるための電磁石等の揺動機構11を備えるとともに、反応槽の前方に配置される試験体を常に中性子の出射方向前方側に位置させるために、その試験体を揺動機構の作動に同期させて周期的に移動させるための移動機構12を備える。

請求項（抜粋）：

液体リチウム等のターゲット物質を反応槽内において膜状態で流下させるとともに、加速した荷電粒子を反応槽に入射させてターゲット物質に対して打ち込むことによって、それらターゲット物質と荷電粒子とにより核反応を生ぜしめ、それによって反応槽の前方に出射される中性子を反応槽の前方に配置した試験体に対して照射する構成の装置であって、ターゲット物質に対する荷電粒子の打ち込み点を周期的に変化させるべく、反応槽に入射させる荷電粒子の軌道を周期的に揺動させるための揺動機構と、反応槽の前方に配置される試験体を常に中性子の出射方向前方側に位置させるべく、その試験体を前記揺動機構の作動に同期させて周期的に移動させるための移動機構とを具備してなることを特徴とする中性子照射装置。