特許

J-GLOBAL ID：200903020780597301

2’-デオキシ-β-アデノシン誘導体の製造法

発明者： 小松 弘典 ,  谷川 広晴 ,  河野 敏之
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-312724
公開番号（公開出願番号）：特開2002-121198
出願日： 2000年10月12日
公開日（公表日）： 2002年04月23日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】従来の欠点を解消し、供給量に制約のない、効率的な2’-デオキシアデノシン誘導体の製造方法を提供する。【解決手段】化合物〔1〕とアデニン塩との縮合反応を、2-ブタノンまたは4-メチル-2-ペンタノン中で行うと、2′-デオキシ-β-アデノシン誘導体〔2〕が高いβ選択性で生成することを見出し、単離精製容易な2′-デオキシ-β-アデノシン誘導体の製造方法を確立した。(式中Rは置換されていてもよいフェニル基を表す。)

請求項（抜粋）：

一般式〔1〕[化1]【化1】(式中、Rは置換されていてもよいフェニル基を表し、Xはハロゲン原子を表す。)で示される2’-デオキシリボース誘導体と、アデニン塩とを、2-ブタノンまたは4-メチル-2-ペンタノン中で縮合することを特徴とする、一般式〔2〕[化2]【化2】(式中、Rは置換されていてもよいフェニル基を表す。)で示される2’-デオキシ -β-アデノシン誘導体の製造方法。

Fターム (3件)：

4C057BB05 ,  4C057LL29 ,  4C057LL42