特許

J-GLOBAL ID：200903020792150078

セラミックスの低温形成方法

発明者： 松尾 英樹 ,  清水 泰雄 ,  鈴木 直
出願人/特許権者： 東燃株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-313425
公開番号（公開出願番号）：特開平7-223867
出願日： 1994年12月16日
公開日（公表日）： 1995年08月22日
要約：

【要約】【目的】 低温焼成で緻密なセラミックス、特にコーティング膜を提供する。【構成】 主として一般式(I):【化1】(但し、R1 ,R2 ,R3 は有機基であるが少なくとも1つは水素原子である。)で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量が100〜5万のポリシラザンまたはこれらのポリシラザンを変成したものを(150°C以下の温度で)熱処理した後、水蒸気雰囲気にさらす、または触媒を含有した蒸留水中に浸す、またはこれらの両方を行う。または、ポリシラザンをPd2+イオンと水に接触させる。

請求項（抜粋）：

主として、一般式(I):【化1】(但し、R1 ,R2 ,R3 はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、アルコキシ基を表わす。ただし、R1 ,R2 ,R3 の少なくとも1つは水素原子である。)で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量が100〜5万のポリシラザンまたはこれらのポリシラザンを変成したものを室温乾燥または熱処理した後、水蒸気雰囲気にさらす、または触媒を含有した蒸留水中に浸す、またはこれらの両方を行うことを特徴とする、セラミックスの形成方法。

IPC (4件)：

C04B 35/589 ,  B05D 7/24 302 ,  C08G 77/62 NUM ,  C09D183/16 PMM