特許
J-GLOBAL ID：200903020846277800
バイアホール検査方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-262616
公開番号（公開出願番号）：特開平6-118012
出願日： 1992年10月01日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：
【要約】【目的】 プリント板などのバイアホールが設計通りに形成されているかを光学的に外観検査する処理に於いて、孔中の残渣を的確に検出する処理法を提供すること。【構成】 プリント板表面を照射するレーザ光を掃引しながら、その反射光をセンサで検知し、センサ出力をAD変換して、被検面に想定した格子の各格子点に対応する多値信号を得る。バイアホール領域内格子点の多値信号の総和が孔底の金属面の露出状況を表すことを利用して、開口の完全さを判定する。従来の蛍光を利用する光学的検査に較べ光信号のコントラストが強いので、より正確な判定が可能となる。
請求項（抜粋）：
被検体であるプリント板の表面を仮想的に画素マトリックスに分割し、該マトリックス全域をレーザ光で走査的に照射してその反射光をセンサに受光し、該センサからの出力信号を多値ディジタル化することにより該各画素からの反射光の強度を示す多値形状信号を得、該プリント板設計データ中のバイアホール中心データに基づいて該バイアホール開口領域を設定し、該開口領域内画素に対応する該多値形状信号を2値化して該開口領域の2値化パターンを得、該2値パターンに基づいて該所定位置のバイアホールの有無の判定と、該開口水平断面形状の適否の判定を行い、更に該開口領域に対応する画素の該多値信号により構成される多値化パターンを抽出し、該多値化パターンに包含される該多値形状信号の和を基準値と比較することにより該バイアホール内部の残渣の有無を判定することを特徴とするバイアホール検査方法。
IPC (2件)：
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