特許
J-GLOBAL ID:200903020846656150

汚染除去方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 奥山 尚男 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-515149
公開番号(公開出願番号):特表平10-508697
出願日: 1995年11月03日
公開日(公表日): 1998年08月25日
要約:
【要約】物体の表面を、テトラフッ化ホウ素酸HBF4の溶液を包含する汚染除去剤で処理し、汚染除去剤と物体表面から除去された溶解種とを含有する液体を、溶解種と反応させると不溶性化合物および再生された汚染除去剤溶液を生じさせる第一の化学薬剤で処理することを含み、かつ、再生された汚染除去剤溶液が、該汚染除去剤溶液から第一の化学薬剤を除去するためにさらに処理されることを特徴とする、放射性汚染物を担持する物体の表面の汚染除去方法。
請求項(抜粋):
物体の表面を、テトラフッ化ホウ素酸HBF4の溶液を含む汚染除去剤で処理する工程と、汚染除去剤と、物体の表面から除去された溶解種とを含有する該工程で生じた液体を、溶解種と反応させると不溶性化合物および再生された汚染除去剤溶液を生じさせる第一の化学薬剤で処理する工程とを含み、かつ、再生された汚染除去剤溶液を更に処理して、該再生された汚染除去剤溶液から第一の化学薬剤を除去する工程を含むことを特徴とする、放射性汚染物質を担持する物体の表面の汚染除去方法。
IPC (3件):
G21F 9/28 525 ,  B08B 3/08 ,  G21F 9/28 ZAB
FI (3件):
G21F 9/28 525 A ,  B08B 3/08 Z ,  G21F 9/28 ZAB

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