特許

J-GLOBAL ID：200903020854695700

オゾン溶解水の製造装置

発明者： 井田 純一 ,  森田 博志
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-003177
公開番号（公開出願番号）：特開2000-197815
出願日： 1999年01月08日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】電子材料などのウェット洗浄工程で洗浄水として用いられる極めて純度の高いオゾン溶解水を容易に製造することができ、所要の濃度のオゾン溶解水を各ユースポイントに供給することができるオゾン溶解水の製造装置を提供する。【解決手段】超純水を脱気して脱気水を得る脱気装置、脱気水に酸素を溶解して酸素溶解水を得る酸素溶解装置及び酸素溶解水に紫外線を照射してオゾン溶解水を得る紫外線照射装置を有することを特徴とするオゾン溶解水の製造装置。

請求項（抜粋）：

超純水を脱気して脱気水を得る脱気装置、脱気水に酸素を溶解して酸素溶解水を得る酸素溶解装置及び酸素溶解水に紫外線を照射してオゾン溶解水を得る紫外線照射装置を有することを特徴とするオゾン溶解水の製造装置。

IPC (3件)：

B01F 1/00 ,  C01B 13/10 ,  H01L 21/304 645

FI (3件)：

B01F 1/00 A ,  C01B 13/10 Z ,  H01L 21/304 645 Z

Fターム (4件)：

4G035AA01 ,  4G035AE13 ,  4G042CA03 ,  4G042CE04