特許
J-GLOBAL ID：200903020859056802
真空成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-210036
公開番号（公開出願番号）：特開平5-036813
出願日： 1991年07月26日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：
【要約】【目的】 基本の搬送時間を短縮でき、生産性を向上できる。【構成】 真空成膜装置は、連続して配置された成膜処理を行うための複数のチャンバ1〜9から構成された成膜室10と、成膜室10に並設された中間室30と、中間室30と成膜室10の一部のチャンバとの間に設けられた仕切弁31とから構成されている。
請求項（抜粋）：
基板に成膜処理を行う真空成膜装置であって、連続して配置された成膜処理を行うための複数の室から構成される成膜室と、前記成膜室に並設されたバイパス室と、前記バイパス室と、前記成膜室の少なくとも中間の室との間に設けられ、これらの室の間で基板を搬送するためのバイパス通路と、を備えた真空成膜装置。
IPC (4件)：
H01L 21/68
, H01L 21/203
, H01L 21/205
, H01L 31/04
