特許
J-GLOBAL ID：200903020861210533
ITOスパッタリング用ターゲットの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-086350
公開番号（公開出願番号）：特開平6-299344
出願日： 1993年04月13日
公開日（公表日）： 1994年10月25日
要約：
【要約】【目的】 高い圧力の酸素雰囲気を必要とせず、即ち安全かつ低コストで理論密度の95%を超える高密度のITOターゲットを高い生産性のもとで製造する方法を提供すること。【構成】 酸化インジウムと酸化すずを主成分とするITOスパッタリング用ターゲットを製造するに際し、原料粉末を混合した後、乾式ボールミル処理を行い、次いでバインダーを添加してプレス成形を行い、得られた成形体を酸素雰囲気中で焼結し、このとき成形体を焼結温度にまで加熱・昇温する速度を1時間に350°C以上とする。
請求項（抜粋）：
酸化インジウムと酸化すずを主成分とするITOスパッタリング用ターゲットを製造するに際し、原料粉末を混合した後、乾式ボールミル処理を行い、次いでバインダーを添加してプレス成形を行い、得られた成形体を酸素雰囲気中で焼結し、このとき成形体を焼結温度にまで加熱・昇温する速度を1時間に350°C以上とすることを特徴とするITOスパッタリング用ターゲットの製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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