特許

J-GLOBAL ID：200903020864148014

ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法

発明者： 神田 博美 ,  水谷 一良
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-032100
公開番号（公開出願番号）：特開2005-221960
出願日： 2004年02月09日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：

【課題】 200nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ塗布均一性、エッチング時間依存性、現像欠陥性に優れたポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 (a)フッ素原子を有し、且つ、酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増大するフッ素原子含有樹脂、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(c)特定構造の化合物及び(d)溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(a)少なくとも1つのフッ素原子を有する、酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (c)下記一般式(A)で表される繰り返し単位を有する化合物、及び、 (d)溶剤 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F7/039 ,  C08F12/14 ,  G03F7/033 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  C08F12/14 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R

Fターム (22件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA05P ,  4J100BA22P ,  4J100BB18P ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 国際公開第00/67072号パンフレット
  
• 国際公開第02/21216号パンフレット