特許
J-GLOBAL ID：200903020871221363
基板表面の洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-336307
公開番号（公開出願番号）：特開平5-029292
出願日： 1991年11月25日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：
【要約】【目的】 基板の表面をエッチング処理した後リンス処理する洗浄方法において、最終的に自然酸化膜や有害汚染物質の吸着が見られずウォータマークの形成も見られない清浄な基板表面が得られるようにする。【構成】 フッ酸蒸気もしくはフッ化水素ガス又はフッ酸を用いて基板の表面をエッチングした後、純水又は水蒸気を用いて基板表面をリンスし、その表面を乾燥させる工程に続いて、フッ酸蒸気もしくはフッ化水素ガスを用いて乾燥処理後の基板表面をエッチングする。
請求項（抜粋）：
少なくともフッ化水素を含む蒸気、ガス又は液体を用いて基板の表面をエッチングする工程と、純水又は水蒸気を用いてエッチング処理後の前記基板の表面をリンスする工程と、リンス処理後の前記基板の表面を乾燥させる工程とを備えてなる基板表面の洗浄方法において、前記乾燥工程に続いて、少なくともフッ化水素を含む蒸気又はガスを用いて乾燥処理後の前記基板の表面をエッチングするようにすることを特徴とする基板表面の洗浄方法。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/302
, H01L 21/304 361
