特許

J-GLOBAL ID：200903020876788060

ガラス基板表面の平滑化方法、および、該方法により得られるEUVリソグラフィ用反射型マスクブランク用の基板

発明者： 宇野 俊之 ,  生田 順亮 ,  横山 みか ,  海老原 健
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (2件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-529390
公開番号（公開出願番号）：特表2009-531254
出願日： 2007年02月19日
公開日（公表日）： 2009年09月03日
要約：

【課題】ピットやスクラッチのような凹欠点を有する基板表面を平滑化する方法の提供。【解決手段】凹欠点を有するガラス基板表面を平滑化する方法であって、乾式成膜法を用いて前記凹欠点を有するガラス基板表面に、流動点Tfが150°C以上前記ガラス基板の歪点Ts(°C)以下のガラス質材料からなる膜を形成する工程、および前記ガラス質材料からなる膜を前記Tf以上前記Ts以下の温度で加熱処理して、前記ガラス質材料からなる膜が欠点を埋めるように流動できるような状態とした後、前記ガラス質材料からなる膜を冷却することにより、前記凹欠点を有するガラス基板表面を平滑化する方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

凹欠点を有するガラス基板表面を平滑化する方法であって、 乾式成膜法を用いて前記凹欠点を有するガラス基板表面に、流動点Tfが150°C以上前記ガラス基板の歪点Ts(°C)以下のガラス質材料からなる膜を形成する工程、および前記ガラス質材料からなる膜を前記Tf以上前記Ts以下の温度で加熱処理して、前記ガラス質材料からなる膜が欠点を埋めるように流動できるような状態とした後、前記ガラス質材料からなる膜を冷却することにより、前記凹欠点を有するガラス基板表面を平滑化する方法。

IPC (4件)：

C03C 17/02 ,  H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G02B 1/10

FI (4件)：

C03C17/02 A ,  H01L21/30 531M ,  G03F1/16 A ,  G02B1/10 Z

Fターム (21件)：

2H095BA01 ,  2H095BA02 ,  2H095BA10 ,  2H095BB25 ,  2H095BB38 ,  2H095BC27 ,  2H095BD40 ,  2K009BB02 ,  2K009CC03 ,  2K009DD04 ,  4G059AA01 ,  4G059AA11 ,  4G059AB09 ,  4G059AC03 ,  4G059CA01 ,  4G059CA03 ,  4G059CB01 ,  4G059CB02 ,  5F046GD03 ,  5F046GD16 ,  5F046GD20

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特にマイクロリソグラフィのための基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-283612   出願人：カール-ツァイス-スティフツング
• 反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-298691   出願人：HOYA株式会社
• 曇りの少ない窓被覆膜
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平4-508840   出願人：ゴードン,ロイ・ジイ

審査官引用 (3件)

• 特にマイクロリソグラフィのための基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-283612   出願人：カール-ツァイス-スティフツング
• 曇りの少ない窓被覆膜
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平4-508840   出願人：ゴードン,ロイ・ジイ
• 反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-298691   出願人：HOYA株式会社