原子転移ラジカル重合を用いる新規のホモ-及びコポリマーの調製

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：志賀正武 , 渡邊隆 , 村山靖彦 , 実広信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-233963
公開番号（公開出願番号）：特開2009-007582
出願日： 2008年09月11日
公開日（公表日）： 2009年01月15日
要約：

【課題】任意選択で少なくとも1つの極性基を含み、良好に規定された分子構造と狭い多分散性指数とを有する新規なホモポリマー又はブロックもしくはグラフトコポリマーを合成するための原子(又は基)転移ラジカル重合法を提供する。【解決手段】本発明のラジカル重合法は、(i)ラジカル転移可能な原子又は基を有する開始剤、(ii)遷移金属化合物、及び(iii)配位子を含む開始剤形の存在下で、ラジカル重合を行うことを特徴とする。また、原子又は基転移ラジカル重合法によって引き続きブロック又はグラフトコポリマーを形成させるための、少なくとも2つのハロゲン基を有するマクロイニシエーター成分として用いることができる高分子も合成できる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

少なくとも1のラジカル転移可能な基を含むマクロイニシエーター、前記マクロイニシエーター及び/又は休止ポリマー鎖末端とともに可逆的酸化還元サイクル中に繰り返し参加する遷移金属複合物、及び1又はそれ以上の生長ポリマー鎖末端に形成されたフリーラジカル、前記遷移金属にσ-結合又はπ-結合で配位する1又はそれ以上のN-、O-、P-、またはS-含有リガンド、又は前記遷移金属にπ-結合で配位することができる任意のC-含有化合物、を含む系の存在中で、1又はそれ以上のラジカル重合可能なモノマーを重合して (コ)ポリマーを形成する工程を含む、原子又は基転移ラジカル重合方法。

IPC (5件)：

C08F 2/38 , C08F 4/40 , C08F 212/14 , C08F 220/22 , C08G 81/02

FI (5件)：

C08F2/38 , C08F4/40 , C08F212/14 , C08F220/22 , C08G81/02

Fターム (23件)：

4J011NB04 , 4J011NB05 , 4J015CA00 , 4J031AA13 , 4J031AA20 , 4J031AA49 , 4J031AA58 , 4J031AA59 , 4J031AB01 , 4J031AD01 , 4J031AE14 , 4J100AB08P , 4J100AL08Q , 4J100BA02Q , 4J100BB03Q , 4J100CA03 , 4J100CA04 , 4J100CA27 , 4J100FA03 , 4J100FA04 , 4J100FA05 , 4J100FA08 , 4J100FA41

引用特許：

審査官引用 (1件)

原子転移ラジカル重合を用いる新規のホモ-及びコポリマーの調製
公報種別：公表公報出願番号：特願平10-505255 出願人：カーネギーメロンユニヴァーシティー

引用文献：

審査官引用 (2件)

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