特許
J-GLOBAL ID：200903020883052141
半導体基板の洗浄液
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-008702
公開番号（公開出願番号）：特開平5-198546
出願日： 1992年01月21日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：
【要約】【目的】 半導体基板を過酸化水素系洗浄液で洗浄する際の金属不純物及び微粒子の基板表面への付着を防止する。【構成】 酸性もしくは塩基性の過酸化水素水溶液からなる洗浄液にポリカルボン酸またはそのアンモニウム塩または有機アミン塩を添加する。【効果】 洗浄液が金属不純物および微粒子により汚染されても、基板表面への付着が抑制されるので、基板より作製した半導体素子の素子特性が安定化する。
請求項（抜粋）：
ポリカルボン酸またはそのアンモニウム塩または有機アミン塩と過酸化水素を含む酸性もしくは塩基性の半導体基板洗浄液。
引用特許：
前のページに戻る
