特許

J-GLOBAL ID：200903020889976710

水処理システムおよび水処理方法

発明者： 久保田 昌良 ,  芳賀 鉄郎 ,  石田 昌彦 ,  馬場 研二 ,  鈴木 実
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 鵜沼 辰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-338388
公開番号（公開出願番号）：特開平7-185573
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：

【要約】【目的】 水処理システムにおいて、処理対象水の中に存在する細菌に対する殺菌効果を向上させる。【構成】 湖沼や河川100から着水池111に取水し、凝集剤110を添加して、フロック形成池112で水中の微細な浮遊物をフロック化し、これを、凝集沈殿池113に導き沈降分離を行い、砂ろ過池114でろ過する。ここまでは現状の上水処理プロセスである。これらに加えて、本発明では、オゾン処理装置2の前段に磁化処理装置1を配置する。そして、砂ろ過池114からのろ過水を磁化処理装置1で磁化処理してから、オゾン反応槽2において、オゾン発生機3からオゾン化空気を吹き込みオゾン処理を行う。オゾン処理後の処理水は生物活性炭塔5で浄化し、処理水槽116で塩素115によって殺菌した後、送水ポンプ117を介して水道水として給水する。

請求項（抜粋）：

処理対象水をオゾンで殺菌処理するオゾン処理装置を備えた水処理システムにおいて、前記処理対象水の中に存在する細菌類に対して磁気エネルギを与える磁化処理装置を、処理対象水の流れに沿って前記オゾン処理装置の前段又は後段の一方に、もしくは前段および後段の両方に配置したことを特徴とする水処理システム。

IPC (8件)：

C02F 1/78 ,  C02F 1/48 ZAB ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 560

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-262790
  
• 特開平4-334593