特許
J-GLOBAL ID：200903020897226088
イオン処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-019814
公開番号（公開出願番号）：特開平8-190888
出願日： 1995年01月11日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：
【要約】【目的】 第2プラズマ生成容器内で生成されるプラズマ中の電子を効率良くファラデーカップ内に導入して利用することができるようにしたイオン処理装置を提供する。【構成】 このイオン処理装置は、第1プラズマ生成容器26とファラデーカップ8との間に設けられていて、第1プラズマ生成容器26側にその小孔28に対向する小孔50を有し、かつファラデーカップ側に孔53を有していてその孔の部分がファラデーカップ8内に挿入されており、かつファラデーカップ8と同電位にされた第2プラズマ生成容器48aを備えている。第2プラズマ生成容器48a内で生成されその孔53から出たプラズマ54は全てファラデーカップ8内に導入される。従って、第2プラズマ生成容器48a内で生成されるプラズマ54中の電子を非常に効率良く利用することができる。
請求項（抜粋）：
基板を保持するホルダと、このホルダの上流側に設けられていて二次電子のアースへの逃げを防止するファラデーカップとを備え、このファラデーカップ内を通してイオンビームをホルダ上の基板に照射して当該基板を処理するイオン処理装置において、前記ファラデーカップの外側に設けられていて、内部にガスが導入され、かつファラデーカップ側に小孔を有する第1プラズマ生成容器と、この第1プラズマ生成容器内に設けられたフィラメントと、前記第1プラズマ生成容器とファラデーカップとの間に設けられていて、第1プラズマ生成容器側にその小孔に対向する小孔を有し、かつファラデーカップ側に孔を有していてその孔の部分がファラデーカップ内に挿入されており、かつファラデーカップと同電位にされた第2プラズマ生成容器と、前記第1プラズマ生成容器の小孔付近から第2プラズマ生成容器内にかけての領域に、それらの軸方向に沿う磁束を発生させる磁束発生手段と、前記ファラデーカップ内にそれから絶縁して設けられていて、少なくとも、当該ファラデーカップ内の前記第2プラズマ生成容器が挿入された部分の周囲を当該第2プラズマ生成容器の部分を除いて覆うリフレクタ電極と、前記フィラメントを加熱するフィラメント電源と、前記第2プラズマ生成容器とフィラメントとの間に前者を正側にして接続された直流のプラズマ生成用電源と、前記第2プラズマ生成容器と第1プラズマ生成容器との間に接続された制限抵抗と、前記リフレクタ電極とファラデーカップとの間に前者を負側にして接続された直流のリフレクタ電源とを備えることを特徴とするイオン処理装置。
IPC (3件)：
H01J 37/317
, C23C 14/48
, H01L 21/265
