特許
J-GLOBAL ID：200903020898901625
塗布液塗布装置及び塗布液塗布方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-346290
公開番号（公開出願番号）：特開平11-169772
出願日： 1997年12月16日
公開日（公表日）： 1999年06月29日
要約：
【要約】【課題】 鉛直あるいは傾斜姿勢で基板を保持して基板に塗布液を塗布する装置において、基板の上辺及び下辺付近の不要な塗布膜を、適切かつ経済的に除去する。【解決手段】 レジスト塗布装置1は、基板保持機構2と、レジスト塗布機構3と、姿勢変換機構4と、エッジ/バックリンス機構5とを備えている。基板保持機構2は、基板Wを鉛直あるいは傾斜姿勢で保持する。レジスト塗布機構3は、基板保持機構2に保持された基板Wに対して、レジスト液を塗布する。姿勢変換機構4は、レジスト液が塗布された基板Wを、その上辺及び下辺が側方に位置するように姿勢変換させる。エッジ/バックリンス機構5は、姿勢変換後の基板Wの側方位置の辺に沿って移動して、基板Wの表面から不要なレジスト膜を除去する。
請求項（抜粋）：
基板を鉛直あるいは傾斜姿勢で保持する保持手段と、前記保持手段に保持された基板に対して塗布液を塗布する塗布手段と、塗布液が塗布された基板を、その上辺及び下辺が側方に位置するように姿勢変換させる姿勢変換手段と、姿勢変換後の基板の側方位置の辺に沿った不要な塗布膜を除去する不要膜除去手段と、を備えた塗布液塗布装置。
IPC (5件)：
B05C 11/08
, B05D 1/26
, B05D 3/00
, G02F 1/13 101
, H01L 21/027
B05C 11/08
, B05D 1/26 Z
, B05D 3/00 A
, G02F 1/13 101
, H01L 21/30 564 Z
