特許
J-GLOBAL ID：200903020902001154
積層造形法およびそれに用いる積層造形装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高崎 芳紘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-129905
公開番号（公開出願番号）：特開2003-321704
出願日： 2002年05月01日
公開日（公表日）： 2003年11月14日
要約：
【要約】【課題】 必要な造形精度を確保し、なおかつ積層造形物に十分な強度を与えることを可能とする積層造形法の提供。【解決手段】 積層造形法では、造形材料の薄層にレーザ光を選択的に照射して選択的な結合や硬化を生じさせることで所定形状に形成される単位造形層を繰り返し積層させることにより造形を行なう。このような積層造形法において、造形単位層の形成に際し、レーザ光の照射パターン内を高精度処理部Dと高強度処理部Fに区分けし、かつ高精度処理部には照射パターンの輪郭Lに沿う一定の範囲を含ませるものとし、そして高精度処理部には第1の照射量レベルでレーザ光を照射し、高強度処理部には第1の照射強度レベルよりも多い第2の照射量レベルでレーザ光を照射するようにしている。
請求項（抜粋）：
造形材料の薄層にレーザ光を選択的に照射して選択的な結合や硬化を生じさせることでなされる、前記レーザ光の選択的照射パターンに対応した形状の単位造形層の形成を順次繰り返し、この繰り返し形成の単位造形層を積層させつつ造形をなす積層造形法において、前記単位造形層の形成に際して、前記レーザ光の照射パターン内を高精度処理部と高強度処理部に区分けし、かつ前記高精度処理部には前記照射パターンの輪郭に沿う一定の範囲を含ませるものとし、そして前記高強度処理部に対しては前記高精度処理部に対するレーザ光の照射量よりも多い照射量でレーザ光を照射するようにしたことを特徴とする積層造形法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (13件)：
4F213AC04
, 4F213WA22
, 4F213WA25
, 4F213WA97
, 4F213WB01
, 4F213WL02
, 4F213WL12
, 4F213WL43
, 4F213WL44
, 4F213WL76
, 4K018DA11
, 4K018DA50
, 4K018FA31
