ネガ型レジスト組成物

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阿形明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-260373
公開番号（公開出願番号）：特開2000-089454
出願日： 1998年09月14日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：

【要約】【課題】 0.20μm以下の微細なレジストパターン形成において、感度、解像性に優れ、しかも良好なパターン断面形状を有し、かつ近接効果の少ないレジストパターンを形成しうるネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、(A)炭素数1〜2のアルキルスルホニルオキシイミドと、(B)炭素数3〜6のアルキルスルホニルオキシイミドと、(C)炭素数7〜9のアルキルスルホニルオキシイミドとの混合物からなる酸発生剤及び架橋剤を有機溶剤に溶解してネガ型レジスト組成物とする。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、架橋剤及び有機溶剤を含む化学増幅型ネガ型レジスト組成物において、酸発生剤が、(A)N位に炭素数1〜2のアルキルスルホニルオキシ基又はハロゲン化アルキルスルホニルオキシ基をもつ環状イミドと、(B)N位に炭素数3〜6のアルキルスルホニルオキシ基又はハロゲン化アルキルスルホニルオキシ基をもつ環状イミドと(C)N位に炭素数7〜9のアルキルスルホニルオキシ基又はハロゲン化アルキルスルホニルオキシ基をもつ環状イミドとからなり、(A)に対する(B)及び(C)の割合がそれぞれ重量比で1:0.1ないし1:10の範囲にある混合環状イミドであることを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 501 , G03F 7/038 601 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 501 , G03F 7/038 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (19件)：

2H025AA00 , 2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025CB16 , 2H025CB17 , 2H025CB29 , 2H025CB52 , 2H025CC03 , 2H025CC17 , 2H025FA17

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