特許
J-GLOBAL ID：200903020912437040
3次元構造体の形成装置及び形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-109606
公開番号（公開出願番号）：特開平5-304073
出願日： 1992年04月28日
公開日（公表日）： 1993年11月16日
要約：
【要約】【目的】 任意の3次元構造体を少ないプロセス数で形成することができ、半導体を含む機能デバイスの作成に適した3次元構造体形成装置を提供すること。【構成】 感応材料の露光を利用した3次元構造体の形成装置において、外部からの駆動信号によりパターンが可変される液晶シャッタ11と、この液晶シャッタ11に光を照射する励起光源と、液晶シャッタマスク11を透過した光を縮小投影する縮小投影レンズ13と、ウェーハ21上にレジスト22を塗布した試料20を縮小投影レンズ13の結像位置にセットし、且つこの試料20を光軸方向に微動する微動ステージ14と、マスク11とステージ14を同期して駆動する制御回路16とを具備してなることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
外部からの駆動信号によりパターンが可変される可変画像マスクと、このマスクに光を照射する励起光源と、前記マスクを透過した光を縮小投影する縮小投影光学系と、この光学系の結像位置に配置される試料を保持し、且つ光軸方向に微動する微動ステージと、前記マスクとステージを同期して駆動する制御回路とを具備してなることを特徴とする3次元構造体の形成装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/08
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 311 L
, H01L 21/30 311 W
, H01L 21/30 361 B
