特許

J-GLOBAL ID：200903020921188680

金属酸化物膜の加工方法

発明者： 馬場 俊明
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-253539
公開番号（公開出願番号）：特開2001-077059
出願日： 1999年09月07日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：

【要約】【課題】 レジスト,金属マスクが不要であり、ドライプロセスのみで、金属酸化物膜のパターニングを容易に行える加工方法を提供する。【解決手段】 ガラス基板1上に形成したITO膜2の除去対象領域(3mm角)にXeClエキシマレーザ光11を、空気中で照射する((b))。照射処理後のガラス基板1/ITO膜2積層体を、真空チャンバ内に設置し、真空チャンバ内にCF4 ガスを導入し、所望の高周波電力を印加してプラズマを生成させる。この結果、XeClエキシマレーザ光11が照射された領域のみのITO膜2が選択的にエッチングされて、ITO膜2の3mm角のエッチングパターンを形成する((c))。

請求項（抜粋）：

金属酸化物膜を加工する方法において、前記金属酸化物膜の所定領域にエネルギビームを照射し、所定領域にエネルギビームが照射された前記金属酸化物膜を、フッ素を含むプラズマに曝し、所定領域の金属酸化物膜を除去することを特徴とする金属酸化物膜の加工方法。

IPC (3件)：

H01L 21/302 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 21/768

FI (3件)：

H01L 21/302 Z ,  G02F 1/1343 ,  H01L 21/90 K

Fターム (32件)：

2H092HA04 ,  2H092MA14 ,  2H092MA15 ,  2H092MA16 ,  2H092MA18 ,  2H092MA19 ,  2H092NA25 ,  2H092NA27 ,  2H092PA01 ,  5F004BB01 ,  5F004BB02 ,  5F004BB03 ,  5F004BB11 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA02 ,  5F004DA16 ,  5F004DA17 ,  5F004DA18 ,  5F004DB13 ,  5F004EA38 ,  5F004FA04 ,  5F004FA05 ,  5F033GG04 ,  5F033HH38 ,  5F033PP15 ,  5F033QQ12 ,  5F033QQ15 ,  5F033QQ53 ,  5F033QQ54 ,  5F033QQ98 ,  5F033RR03