浄水装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-250932
公開番号（公開出願番号）：特開平7-080480
出願日： 1993年09月14日
公開日（公表日）： 1995年03月28日
要約：

【要約】【目的】汚染物質の含まれる水を深井戸状の水路が設けられたオゾン接触装置を直列多段に配設し、廃オゾン無害化処理装置が不要な迄にオゾン有効利用効率を高めて安全な水の低簾な安定供給及び省スペース化を可能にする。【構成】上部と下部とで上昇管と連通する下降管内を毎秒1〜2mの速度で乱流動する下降水流中に供給される被処理水とオゾンガスとを接触させる水深が8m以上の水路と該オゾンガスを注入する注気手段と該上昇管内の水面下から揚水し該下降水流を形成維持せしめる揚水手段とを具備する発生オゾン接触装置と回収オゾン接触装置と廃オゾン接触装置とが装設されていることを特徴とする浄水装置と、該廃オゾン接触装置の水路内に該回収オゾン接触装置と発生オゾン接触装置の水路部が装設されていることを特徴とする浄水装置とである。

請求項（抜粋）：

汚染物質を含む被処理水にオゾンガスを接触させて浄化する浄水装置において、上部と下部とで連通する下降管と上昇管とからなる水深が8m以上の深井戸状の水路と該水路を覆うガスドームとが設けられた気-液接触装置を具備し、該水路に該下降管部で供給された被処理水を該上昇管部で揚水して該下降管内に高速の下降水流を与える揚水手段と該下降水流中にオゾンガスを注入する注気手段とが付設され、該ガスドームに該上昇管の水中から分離したオゾンガスを導出する分配器が付設されていることを特徴とする浄水装置。

IPC (5件)：

C02F 1/78 , C02F 1/50 510 , C02F 1/50 531 , C02F 1/50 550 , C02F 3/08 ZAB

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