特許

J-GLOBAL ID：200903020945976906

マスクの検査方法およびマスク欠陥検査装置

発明者： 石川 喜一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-165691
公開番号（公開出願番号）：特開2004-012779
出願日： 2002年06月06日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：

【課題】微細パターンが形成されたマスクで、修正が必要な欠陥を正確かつ容易に検出できるマスクの検査方法と、マスク欠陥修正装置を提供する。【解決手段】所定のパターンで光透過領域と遮光領域を有し、パターンの転写に用いられるマスクにおいて、パターンの欠陥を検出する方法であって、パターンの線幅および/または間隔が異なる複数の条件に対し、予め許容欠陥サイズを設定しておく工程と、欠陥を検出し、欠陥部分でのパターンの線幅および間隔を認識する工程と、認識されたパターンの線幅と間隔に対応する許容欠陥サイズを選択し、検出された欠陥のサイズと比較する工程と、許容欠陥サイズより大きい欠陥を、修正が必要な欠陥と判断する工程とを有するマスクの検査方法およびそれに用いるマスク欠陥修正装置。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

所定のパターンで光透過領域と遮光領域を有し、前記パターンの転写に用いられるマスクにおいて、パターンの欠陥を検出するための検査方法であって、 パターンの線幅および/または間隔が異なる複数の条件に対し、予め許容欠陥サイズを設定しておく工程と、 欠陥を検出し、該欠陥部分でのパターンの線幅および間隔を認識する工程と、欠陥部分で認識されたパターンの線幅および間隔に対応する許容欠陥サイズを選択し、検出された欠陥のサイズと比較する工程と、 許容欠陥サイズより大きい欠陥を、修正が必要な欠陥と判断する工程とを有する マスクの検査方法。

IPC (3件)：

G03F1/08 ,  G01N21/956 ,  G06T1/00

FI (3件)：

G03F1/08 S ,  G01N21/956 A ,  G06T1/00 305A

Fターム (29件)：

2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC04 ,  2G051AC21 ,  2G051BA20 ,  2G051BB07 ,  2G051BB09 ,  2G051BB11 ,  2G051CA04 ,  2G051CB02 ,  2G051CC07 ,  2G051DA07 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051ED04 ,  2G051ED08 ,  2G051ED21 ,  2H095BD04 ,  2H095BD23 ,  2H095BD28 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CH07 ,  5B057CH18 ,  5B057DA03 ,  5B057DA08 ,  5B057DA12 ,  5B057DC03 ,  5B057DC04