特許
J-GLOBAL ID：200903020946073624

露光装置及びデバイス製造方法

発明者：
長坂 博之

長坂 博之 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-049366
公開番号（公開出願番号）：特開2004-259966
出願日： 2003年02月26日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：
【課題】投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で露光処理する際、液体の温度変化に起因するパターン転写精度の低下を抑制できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置EXは、投影光学系PLの投影領域AR1を含む基板P上の一部に液浸領域AR2を形成し、投影光学系PLと基板Pとの間の液体1及び投影光学系PLを介してパターン像を基板P上に投影し、基板Pの複数のショット領域を順次露光する露光装置であって、液浸領域AR2を形成するために、投影光学系PLの少なくとも先端付近の側面3を伝って基板P上に液体1を供給する液体供給機構10を備えている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に液浸領域を形成し、前記投影光学系と前記基板との間の液体及び前記投影光学系を介してパターン像を前記基板上に投影し、前記基板の複数のショット領域を順次露光する露光装置において、 前記液浸領域を形成するために、前記投影光学系の少なくとも先端付近の側面を伝って前記基板上に液体を供給する液体供給機構を備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/22
FI (2件)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/22 H
Fターム (5件)：
5F046BA03 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12 ,  5F046DA27 ,  5F046DA30
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 特開平4-340242
  • 投影露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-341445   出願人：株式会社ニコン
  • 特開昭62-065326

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