特許
J-GLOBAL ID：200903020946618540
ヘキサアリールビイミダゾール化合物およびそれを含む光重合開始剤組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柿沼 伸司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-300446
公開番号（公開出願番号）：特開2004-137152
出願日： 2002年10月15日
公開日（公表日）： 2004年05月13日
要約：
【課題】高感度で低昇華性の光ラジカル発生剤、およびそれを用いた光重合開始剤組成物、並びにベイキング工程においても昇華物が発生しにくく、排気ダクトの汚染の少ない光重合性組成物を提供すること。【解決手段】アルキル基などの置換基を有するアリール基を含むヘキサアリールビイミダゾール化合物および当該化合物を含む光重合性組成物。【化1】【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(1)で表されるヘキサアリールビイミダゾール化合物。
IPC (5件)：
C07D233/88
, C08F2/50
, G02B5/20
, G02B5/22
, G03F7/031
C07D233/88
, C08F2/50
, G02B5/20 101
, G02B5/22
, G03F7/031
2H025AA01
, 2H025AB13
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC13
, 2H025BC42
, 2H025CA01
, 2H025CA03
, 2H025CA09
, 2H025CA20
, 2H025CA28
, 2H025CA31
, 2H025CC11
, 2H025FA17
, 2H048BA48
, 2H048BB42
, 2H048CA04
, 2H048CA09
, 2H048CA14
, 2H048CA19
, 4J011AA05
, 4J011QA03
, 4J011QA13
, 4J011QA17
, 4J011QA22
, 4J011QA23
, 4J011QA38
, 4J011QA39
, 4J011QA42
, 4J011QA46
, 4J011QB02
, 4J011SA78
, 4J011TA03
, 4J011UA01
, 4J011VA01
, 4J011WA01
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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