特許

J-GLOBAL ID：200903020946697474

真空蒸着方法とその装置

発明者： 岡本 球夫 ,  今村 淳一 ,  竹中 健一
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 鬼頭 敏夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-341515
公開番号（公開出願番号）：特開2002-146518
出願日： 2000年11月09日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：

【要約】【課題】 電子銃付近の付着蒸着材料による影響ならびに蒸発粒子の蒸気による影響を受けず、余分なエネルギーを要することなく、均一な蒸着層を被蒸着材料の上に得ることができる真空蒸着方法とその装置を提供することを目的とする。【解決手段】 時間の経過と共に電子銃2付近に付着する蒸着材料4の量に関連して、時間補正装置15により、電子銃2の出力電流と偏向コイル電流を時間の経過と共に自動的に変化させ、電子ビーム3の強さと照射位置を補正する。

請求項（抜粋）：

真空槽内で電子銃より発射された電子ビームを蒸着材料に照射して加熱し、蒸着材料から発生する蒸発粒子を被蒸着材料に蒸着させる真空蒸着方法において、時間の経過と共に電子銃付近に付着する蒸着材料の量に関連して、電子銃の出力電流と偏向コイル電流を時間の経過と共に自動的に変化させ、電子ビームの強さと照射位置を補正する真空蒸着方法。

IPC (3件)：

C23C 14/30 ,  G11B 5/85 ,  H01J 37/06

FI (3件)：

C23C 14/30 B ,  G11B 5/85 A ,  H01J 37/06 B

Fターム (10件)：

4K029AA25 ,  4K029BD11 ,  4K029CA01 ,  4K029DB22 ,  4K029EA01 ,  4K029KA01 ,  5C030BC09 ,  5D112AA05 ,  5D112FA02 ,  5D112FB13