特許

J-GLOBAL ID：200903020948608541

感光性粘着レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 坂口 徳久
出願人/特許権者： 大日本インキ化学工業株式会社
代理人 (1件)： 高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-047959
公開番号（公開出願番号）：特開平6-258829
出願日： 1993年03月09日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：

【要約】【構成】 (1)分子鎖中にアミド、尿素、ウレタン、エステルから選ばれた基を含有アクリルオリゴマ-、(2)カルボキシル基又はリン酸基含有アクリルオリゴマ-、(3)開始剤及び/又は光増感剤と、(4)エポキシ樹脂を含有する感光性粘着レジスト組成物、及び、現像処理する前工程又は後工程として感光層を熱処理することを特徴とするパタ-ン形成方法。【効果】 本発明の組成物によれば、薄膜単層コ-ティングができ、かつ、その表面に金属マスク等を転写・固着し得る機能を有する感光材料であり、ステッパ-を用いずに一括露光方式で基板上に欠落の無いエッチング耐性に優れた高解像度のパタ-ン画像を形成することができ、液晶表示素子等の大面積回路素子基板を簡便に生産性良く製造することができる。

請求項（抜粋）：

基材上に光重合性組成物を塗布し、表面粘着力を有する感光性薄膜層を形成する第1工程、該感光性薄膜層表面上に遮光性固形マスクを転写・固着する第2工程、固着固形マスク側から活性光線を照射することによってマスク開口部の感光性薄膜層を架橋硬化する第3工程及び固形マスクを剥離除去した後、未露光感光性薄膜層を現像除去して基材上に高精細パターン画像を形成する第4工程からなる高精細パターン画像を形成する方法に用いる光重合性組成物から成る感光性粘着レジスト組成物であって、前記光重合性組成物が、(1)分子鎖中にアミド基、尿素基、ウレタン基、エステル基から成る群から選ばれた1種以上の基を有するアクリル又はメタクリル末端基含有アクリルオリゴマー、(2)カルボキシル基又はリン酸基含有アクリルオリゴマー、(3)光重合開始剤及び/又は光増感剤及び(4)エポキシ樹脂を含有することを特徴とする感光性粘着レジスト組成物。

IPC (8件)：

G03F 7/027 502 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 522 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/032 501 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/30 301 R ,  H01L 21/30 361 L ,  H01L 21/30 361 Q