特許

J-GLOBAL ID：200903020949393794

光散乱ポリスチロール成形材料、及びそれからなる成形体

発明者： ヴェルナー ジオル ,  ハインリッヒ ポスト
出願人/特許権者： レーム ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-236018
公開番号（公開出願番号）：特開平6-207065
出願日： 1993年09月22日
公開日（公表日）： 1994年07月26日
要約：

【要約】【目的】 光散乱ポリスチロール成形材料に関する。【構成】 これは、スチロール及び/又は置換されたスチロール少なくとも50重量部から形成されたポリマーマトリックス相MP40〜99.9重量%及び散乱体SK0.1〜60重量%からなる。【効果】 この光散乱成形材料から製造された成形体、例えばランプ又はスクリーンは、同時に高い光透過率で、光を散乱する。

請求項（抜粋）：

スチロール及び/又は置換されたスチロール少なくとも50重量部から形成されたポリマーマトリックス相MP40〜99.9重量%及び散乱体SK0.1〜60重量%からなる光散乱ポリスチロール成形材料において、散乱体SKは、p1)メチルメタクリレート及び/又はエチルメタクリレート20〜89.5重量部、p2)式I:【化1】[式中、R1は炭素原子3〜24個を有するアルキル基を表わす]のモノマー少なくとも1個10〜80重量部及びp3)エチレン性不飽和のラジカル重合可能な基2個以上を有する架橋モノマー少なくとも1個0.5〜10重量部(ここで、モノマーp1)、p2)及びp3)は100重量部まで補充する)から形成されたコポリマーCPからなることを特徴とする、光散乱ポリスチロール成形材料。

IPC (2件)：

C08L 25/02 LDV ,  C08L 33/10 LJD