特許
J-GLOBAL ID：200903020951142952
露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-236938
公開番号（公開出願番号）：特開平6-084753
出願日： 1992年09月04日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：
【要約】【目的】 移動鏡の曲がりによる誤差を補正して露光を行う。【構成】 計測マークが形成されたレチクルのパターンをウエハW上のX方向の第1列32のショット領域に順次露光し、隣り合うショット領域間のY方向の位置ずれ量Δyを求める。その際に、各ショット領域の回転誤差の補正を行う。位置ずれ量ΔyをX方向に加算していくとY軸用の移動鏡7Yの曲がりの形状が分かる。実際の露光時にはその曲がり分だけ計測された座標値の補正を行ってウエハWの位置決めを行う。
請求項（抜粋）：
移動鏡が固定され2次元平面内で感光基板を位置決めするステージと、前記移動鏡から反射される光ビームを用いて前記ステージの座標を計測する座標計測手段と、露光光でマスクを照明する照明光学系と、前記マスクの像を前記ステージ上の感光基板に投影する投影光学系とを有する露光装置の露光方法において、前記マスクとしてパターン領域の一端近傍に複数の第1の計測マークが形成され前記パターン領域の他端近傍に複数の第2の計測マークが形成された計測用マスクを用いて、且つ前記移動鏡を用いて計測された座標に基づいて前記ステージをステッピングさせながら、前記計測用マスクのパターンを前記ステージ上の感光基板の複数のショット領域に前記第1の計測マークの像と前記第2の計測マークの像とがほぼ重なり合うように順次露光する第1の工程と、前記感光基板上に露光された前記第1の計測マークの像の位置と前記第2の計測マークの像の位置との差より前記感光基板上の前記複数のショット領域の相対的な配列を算出する第2の工程と、該算出された前記複数のショット領域の相対的な配列より前記移動鏡の曲がりを算出する第3の工程と、前記マスクとして転写用のパターンが形成された露光用のマスクを用いて、前記移動鏡を用いて計測された座標に前記第3の工程で算出された前記移動鏡の曲がりの補正をして得られた座標に基づいて前記ステージをステッピングさせながら、前記露光用のマスクのパターンを前記ステージ上の感光基板の各ショット領域に露光する第4の工程とを有する事を特徴とする露光方法。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, G01B 11/02
, G03B 27/32
, G03F 7/23
, H01L 21/68
