特許

J-GLOBAL ID：200903020953553496

電子材料の洗浄方法

発明者： 森田 博志 ,  井田 純一
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-095994
公開番号（公開出願番号）：特開平11-297657
出願日： 1998年04月08日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：

【要約】【課題】電子材料のウェット洗浄において、品質不良、歩留り低下の原因となる多種類の金属汚染を、電子材料表面から、温和な条件で、同時に効率よく除去することができる電子材料の洗浄方法を提供する。【解決手段】被洗浄物を、酸を溶解した洗浄水及び酸化剤を溶解した洗浄水と接触させることを特徴とする電子材料の洗浄方法。

請求項（抜粋）：

被洗浄物を、酸を溶解した洗浄水及び酸化剤を溶解した洗浄水と接触させることを特徴とする電子材料の洗浄方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 647 ,  B08B 3/08 ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/18

FI (4件)：

H01L 21/304 647 Z ,  B08B 3/08 A ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/18