特許

J-GLOBAL ID：200903020953664557

加熱装置、当該加熱装置を有する熱処理装置、及び、熱処理制御方法

発明者： 重岡 隆 ,  佐久間 健
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-400199
公開番号（公開出願番号）：特開2002-203804
出願日： 2000年12月28日
公開日（公表日）： 2002年07月19日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、被処理体の均一かつ急速な昇温を達成する加熱装置、熱処理装置及び加熱制御方法を提供することを例示的目的とする。【解決手段】 本発明の熱処理装置は、被処理体と相対的に回転可能で、当該被処理体に熱処理を施すために当該被処理体を加熱する複数のダブルエンドランプと、当該ダブルエンドランプからの熱を前記被処理体に反射するリフレクタとを有して、前記ダブルエンドランプは直線状の発光部を含み、前記複数のダブルエンドランプは、前記発光部の長手方向に沿って整列する少なくとも二つのダブルエンドランプを含む。

請求項（抜粋）：

被処理体と相対的に回転可能で、当該被処理体に熱処理を施すために当該被処理体を加熱する複数のダブルエンドランプと、当該ダブルエンドランプからの熱を前記被処理体に反射するリフレクタとを有する熱処理装置であって、前記ダブルエンドランプは直線状の発光部を含み、前記複数のダブルエンドランプは、前記発光部の長手方向に沿って整列する少なくとも二つのダブルエンドランプを含む熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/26 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31

FI (4件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/31 B ,  H01L 21/26 J ,  H01L 21/26 T

Fターム (13件)：

5F045AB02 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AC01 ,  5F045AC05 ,  5F045AC11 ,  5F045AC12 ,  5F045BB02 ,  5F045DP04 ,  5F045EK12 ,  5F045EK22 ,  5F045EK30 ,  5F045GB05

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭61-193437
  
• 特開昭63-245920
  
• 特開昭63-081921