特許

J-GLOBAL ID：200903020957282047

Ruスパッタリングターゲットおよびその製造方法

発明者： 森 暁 ,  内山 直樹
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 富田 和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-135846
公開番号（公開出願番号）：特開平8-302462
出願日： 1995年05月09日
公開日（公表日）： 1996年11月19日
要約：

【要約】【目的】 高純度スパッタリングRu膜を形成するためのRuターゲットを提供する。【構成】 Ru溶解層1およびホットプレス成形体部分3からなるRuスパッタリングターゲット。

請求項（抜粋）：

Ru粉末のホットプレス成形体の表面にRu溶解層が形成されていることを特徴とするRuスパッタリングターゲット。

IPC (5件)：

C23C 14/34 ,  B22F 3/24 ,  C23C 14/14 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/8242

FI (4件)：

C23C 14/34 A ,  B22F 3/24 Z ,  C23C 14/14 D ,  H01L 27/10 651