特許
J-GLOBAL ID：200903020959255144
位相シフトフォトマスク、位相シフトフォトマスク用ブランクス及びそれらの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-031428
公開番号（公開出願番号）：特開平6-342205
出願日： 1994年03月01日
公開日（公表日）： 1994年12月13日
要約：
【要約】【目的】 ハーフトーンマスクにおいて、検査等に用いる可視の長波長側での透過率を抑えて、透過部と半透明部のコントラスト低下を防止し、また、電子線露光の際のチャージアップを防止して、製造、検査、測定を容易にする。【構成】 透明基板1上に露光光に対して半透明領域と透明領域とを有し、透明領域と半透明領域との位相差が実質的にπになるような構成のハーフトーン位相シフトマスクであり、半透明領域を構成する半透明膜がクロム又はクロム化合物の多層膜3、4からなるもので、例えば、層3は、酸化クロム、酸化窒化クロム、酸化炭化クロム、又は、酸化窒化炭化クロムから、層4は、クロム又は窒化クロムからなり、層3は主として位相シフト層としての役割を担い、層4は主として長波長サイドの透過率を抑える透過率調整層としての役割を担う。
請求項（抜粋）：
透明基板上に露光光に対して半透明な領域と透明な領域とを有し、該透明領域と該半透明領域との位相差が実質的に180°になるような構成の位相シフトフォトマスクにおいて、半透明領域を構成する半透明膜がクロムあるいはクロム化合物の多層膜からなることを特徴とする位相シフトフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
