特許

J-GLOBAL ID：200903020962285801

弁装置

発明者： 中村 光男
出願人/特許権者： 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社
代理人 (1件)： 佐々木 聖孝 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-335798
公開番号（公開出願番号）：特開平5-106749
出願日： 1991年10月18日
公開日（公表日）： 1993年04月27日
要約：

【要約】【構成】 弁装置1は、第一の弁部2Aと、第二の弁部2Bと、両弁部に共通な基体8とを有する。基体の第一の弁部側には、反応ガス導入孔3に連通する第一の連通孔4Aと、環状溝16と、環状溝16に連孔するガス排出孔17とが設けられている。基体の第二の弁部側には、第一の弁部側の環状溝16に連通する第二の連通孔4Bと、置換ガス供給孔6に連通する置換ガス導入孔5とが設けられている。【効果】 基体内のガス通路に大気が侵入することが無く、大気中の水分や塵埃による製品品質の劣化が起らない。また、第一、第二の弁部に共通の基体に各ガス通路を設けているので、これらガス通路の容積を小さくできる。従って、第一、第二の通体(反応ガスと置換ガス)の導通切換え時に前段のガスの残存量を小さくできる。その結果、ガス置換が短時間で済んで迅速になされる。

請求項（抜粋）：

第一の流体の導通及び導通停止をさせる第一の弁部と、第二の流体の導通及び導通停止をさせる第二の弁部と、両弁部に共通の基体とを有し、前記基体の前記第一の弁部側には、前記第一の流体を供給する第一流体供給部と、前記第二の流体を導入する第二流体導入部と、この第二流体導入部に常時連通する流体排出部とが設けられ、前記基体の前記第二の弁部側には、前記第二の流体を供給する第二流体供給部と、前記第二流体導入部に連通する第二流体導出部とが設けられ、前記第一及び第二の弁部の操作により、前記第一の流体及び前記第二の流体のいずれか一方が選択的に導通されるように構成されている弁装置。

IPC (2件)：

F16K 11/22 ,  F16K 7/16