特許
J-GLOBAL ID:200903020963348211
活性エネルギー線硬化型組成物、それを用いた硬化被膜の形成方法および硬化物
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-243317
公開番号(公開出願番号):特開2000-072830
出願日: 1998年08月28日
公開日(公表日): 2000年03月07日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】種々の基材に対して高密着性を示すと共に顔料分散性に優れた活性エネルギー線硬化型組成物、それを用いた硬化被膜の形成方法および硬化物の提供。【解決手段】芳香族系エポキシ基含有化合物(a-1)とアルキレンオキサイドおよび/またはラクトン構造を有するカルボキシル基含有(メタ)アクリル系化合物(a-2)とを反応させてなるエポキシアクリレート(A)と、他の重合性不飽和化合物(B)とを含む活性エネルギー線硬化型組成物、前記組成物に加速電圧30〜100kVの電子線を照射せしめる硬化被膜の形成方法、および前記組成物に活性エネルギー線を照射せしめてなる硬化物。
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で示されるエポキシ基含有化合物(a-1)と下記一般式(2-1)〜(2-3)で示されるカルボキシル基含有(メタ)アクリル系化合物(a-2)とを反応させてなるエポキシアクリレート(A)と、他の重合性不飽和化合物(B)とを含む活性エネルギー線硬化型組成物。【化1】(式中、R1 は直接結合、炭素数1〜3のアルキレン基、スルホニル基、または酸素原子、R2a、R2b 、R2c、R2dは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、またはハロゲン原子、nは0〜10の整数をそれぞれ示す。)【化2】(式中、R3 は水素原子またはメチル基、R4 は下記式(a)〜(h)で示される有機残基、R4'は直接結合または下記式(d)〜(h)で示される有機残基、pは2〜20、Xは2〜20、qは2〜15、Yは0〜10、uは1〜10、tは5〜15、rおよびr' は1〜16の整数をそれぞれ示す。)【化3】(式中、R5 、R5'は水素原子、または炭素数1〜20の飽和または不飽和の炭化水素基を示す。)
IPC (4件):
C08F290/06
, C08L 63/00
, C09D 5/00
, C09D 11/00
FI (4件):
C08F290/06
, C08L 63/00 C
, C09D 5/00 C
, C09D 11/00
Fターム (95件):
4J002AB015
, 4J002AC015
, 4J002BB005
, 4J002BC035
, 4J002BG005
, 4J002CC035
, 4J002CC135
, 4J002CD005
, 4J002CD201
, 4J002CF005
, 4J002CF015
, 4J002CF285
, 4J002CH052
, 4J002CL005
, 4J002EB026
, 4J002EE016
, 4J002EH076
, 4J002EH146
, 4J002EL026
, 4J002EL036
, 4J002EL066
, 4J002EP016
, 4J002ET016
, 4J002EU016
, 4J002EU026
, 4J002EU116
, 4J002EW046
, 4J002FD010
, 4J002FD090
, 4J002FD170
, 4J002FD310
, 4J002GH01
, 4J002GJ01
, 4J002GJ02
, 4J002HA05
, 4J027AB03
, 4J027AC03
, 4J027AC04
, 4J027AC06
, 4J027AE02
, 4J027AE06
, 4J027AE07
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, 4J039AF03
, 4J039EA04
, 4J039EA08
, 4J039FA01
, 4J039FA02
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