特許
J-GLOBAL ID：200903020966493387
ECRエッチング装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
本庄 武男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-160593
公開番号（公開出願番号）：特開平6-005548
出願日： 1992年06月19日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：
【要約】【目的】 高エッチング速度,高選択比といったエッチング性能を維持しつつ,エッチング形状を試料に対して垂直にし,かつ試料に対するダメージを低減することのできるECRエッチング装置。【構成】 このECRエッチング装置A′は,並設された少なくとも1対の磁気コイル6,6に同一方向に電流を流すことにより発生させる磁場と,この磁場内にマイクロ波を導入することにより発生させる電場との相互作用により生じる電子サイクロトロン共鳴(ECR)現象を用いてプラズマ化された処理ガス中のイオンを試料基板3に照射するに際し,磁気コイル6,6の中心軸方向の中間部に試料基板3を配置すると共に,磁気コイル6,6の近傍に該コイルと同心に補助コイル7を配設することにより磁場プロフィールを変化させるように構成されている。上記構成により高エッチング速度,高選択比といったエッチング性能を維持しつつ,エッチング形状を試料に対して垂直にし,かつ試料に対するダメージを低減することができる。
請求項（抜粋）：
並設された少なくとも1対の磁気コイル群に同一方向に電流を流すことにより磁場を発生させる磁場発生手段と,上記磁場発生手段により発生させる磁場内にマイクロ波を導入して電場を発生させる電場発生手段とを備え,上記磁場発生手段により発生させる磁場と上記電場発生手段により発生させる電場との相互作用によって生じる電子サイクロトロン共鳴現象を用いてプラズマ化された処理ガス中のイオンを試料に照射することによりエッチング処理を行うECRエッチング装置において,上記磁気コイル群の中心軸方向の中間部に上記試料を配置すると共に,上記磁気コイル群の近傍に該磁気コイル群と同心に配設されて上記磁場発生手段により発生される磁場のプロフィールを変化させる補助磁石を設けてなることを特徴とするECRエッチング装置。
IPC (2件)：
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