特許
J-GLOBAL ID：200903020968251399

反射防止積層体

発明者：
吉原 俊夫

吉原 俊夫 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 光来出 良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-182611
公開番号（公開出願番号）：特開2008-009347
出願日： 2006年06月30日
公開日（公表日）： 2008年01月17日
要約：
【課題】透明基材/低屈折率層の各層を少なくもと基本的に有する反射防止フィルム等の反射防止積層体において、表面が平坦性、且つ防汚性に優れ、透明性や膜強度に優れた反射防止積層体を提供する。 【解決手段】透明基材上に、光透過性の低屈折率層を構成層の一つとして有する2層以上からなる反射防止積層体である。該低屈折率層は、バインダー成分を硬化させて形成された低屈折率層内の表面付近に、レベリング剤としてのブロック共重合体を固定させた硬化層である。該ブロック共重合体は、ラジカル重合性単量体を重合成分として構成されるブロック(A)と、ケイ素元素及び/又はフッ素元素を含む重合成分から構成されるブロック(B)とから成るAB型のブロック共重合体である。該ブロック共重合体のGPC法による分子量分布が1〜2の範囲である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
透明基材上に、光透過性の低屈折率層を構成層の一つとして有する2層以上からなる反射防止積層体であって、 該低屈折率層は、バインダー成分を硬化させて形成された低屈折率層内の表面付近に、ブロック共重合体を固定させた硬化層であり、 該ブロック共重合体は、ラジカル重合性単量体を重合成分として構成されるブロック(A)と、ケイ素元素及び/又はフッ素元素を含む重合成分から構成されるブロック(B)とから成るAB型のブロック共重合体であり、 該ブロック共重合体のGPC法による分子量分布が1〜2の範囲であることを特徴とする反射防止積層体。
IPC (3件)：
G02B 1/11 ,  B32B 7/02 ,  G02B 1/10
FI (3件)：
G02B1/10 A ,  B32B7/02 103 ,  G02B1/10 Z
Fターム (37件)：
2K009AA03 ,  2K009AA15 ,  2K009BB11 ,  2K009CC21 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD12 ,  4F100AK01B ,  4F100AL02B ,  4F100AR00E ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10D ,  4F100BA10E ,  4F100EH46 ,  4F100GB41 ,  4F100GB90 ,  4F100JA07B ,  4F100JB14B ,  4F100JK01 ,  4F100JK12E ,  4F100JK15 ,  4F100JN01 ,  4F100JN01A ,  4F100JN06 ,  4F100JN08B ,  4F100JN18B ,  4F100JN18C ,  4F100JN18D ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4F100YY00D
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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