特許

J-GLOBAL ID：200903020970172200

塗布方法及び装置

発明者： 高橋 伸輔 ,  柴田 徳夫
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-047746
公開番号（公開出願番号）：特開平5-212337
出願日： 1992年02月05日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：

【要約】チキソトロピックな流体における薄層の多層塗布における問題点を解決すべく、多層同時塗布において色むらや縦すじ等の発生を効果的に抑え、かつ配向性低下を抑え良好な磁気記録媒体を安定して製造する。【構成】 連続的に走行する非磁性支持体20上に、微粒子を分散した非ニユートン流体である複数の有機溶剤系の塗布液をエクストルージョン型の塗布ヘッド1を用いて三層以上重ね合わせるように同時重層塗布する塗布方法並びに装置である。複数のスリット10、11、12からそれぞれ前記塗布液21、22、23を吐出させると共に、少なくとも最下層の前記塗布液を非磁性液とし、該各スリットの下流側に位置するドクターエッジにて各層を順次層設するときに、各スリットの開口部上流端から下流側のドクターエッジに引いた接線を越えるエッジ面がない塗布ヘッドを用い、且つ上流にて塗布された塗布液に対して合流する下流側の塗布液の合流角度を一定値以下にて合流させて順次前記塗布液を塗布する方法及び装置。

請求項（抜粋）：

連続的に走行する非磁性支持体上に、微粒子を分散した非ニユートン流体である複数の有機溶剤系の塗布液をエクストルージョン型の塗布ヘッドを用いて三層以上重ね合わせるように同時重層塗布する塗布方法において、複数のスリットからそれぞれ前記塗布液を吐出させると共に、少なくとも最下層の前記塗布液を非磁性液とし、該各スリットの下流側に位置するドクターエッジにて各層を順次層設するときに、各スリットの開口部上流端から下流側のドクターエッジに引いた接線を越えるエッジ面がない塗布ヘッドを用い、且つ上流にて塗布された塗布液に対して合流する下流側の塗布液の合流角度を165°以下にて合流させて順次前記塗布液を塗布することを特徴とする塗布方法。

IPC (4件)：

B05C 5/02 ,  B05D 1/26 ,  B05D 1/36 ,  G11B 5/842

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭58-109162
  
• 特公昭47-035298