特許
J-GLOBAL ID：200903020980881209
ポリシランの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-087920
公開番号（公開出願番号）：特開平6-271678
出願日： 1993年03月23日
公開日（公表日）： 1994年09月27日
要約：
【要約】【目的】 光電導体、フォトレジスト、発光材料、電荷輸送材料あるいは非線形光学材料等に有用であるポリシランの製造方法に関する。【構成】 オルガノジクロロシランを、クラウンエーテルの存在下に、支持電解質を含有する有機溶媒中で電解することを特徴とするポリシランの製造方法。【効果】 より高分子量で、加工性、機械的強度の優れたポリシランを、安全かつ効率的に製造する。
請求項（抜粋）：
オルガノジクロロシランを支持電解質を含有する有機溶媒中で電解することによりポリシランを製造するに際し、クラウンエーテルを存在させることを特徴とするポリシランの製造方法。
引用特許：
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