特許
J-GLOBAL ID:200903020983837731
ダイヤモンドの製造法および製造装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
川瀬 茂樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-106016
公開番号(公開出願番号):特開平5-279182
出願日: 1992年03月30日
公開日(公表日): 1993年10月26日
要約:
【要約】【目的】 DCプラズマジェットにより基材の上へ活性化された炭素源ガスを吹き付けてダイヤモンドを合成する方法は高速合成が可能である。しかし、大面積の基材の上へ均一にダイヤモンド合成する事はできない。大面積の基材にダイヤモンド膜を均一に合成する事が本発明の目的である。【構成】 1つ以上の陰極とすべきプラズマト-チと、2以上の陽極ノズルをを用いる。それぞれの中心軸線の延長線が同一点で交差するように配置する。不活性ガス、水素ガスを陰極ト-チ内に通し、内部ア-クプラズマを形成する。この後陰極ト-チと陽極ノズルの間に電圧を加え、陽極ノズルにもガスを流し、陰極ト-チと陽極ノズルの間に移行式の外部ア-クプラズマを形成する。ト-チとノズルを移動、回転して外部ア-クプラズマ形成領域を拡げる。炭素源ガスは外部ア-クプラズマジェットの合流点に向けてガス供給ノズルから吹き付ける。
請求項(抜粋):
軸心線に関して同心円上に配置された陰極と陽極とその間に形成されたガス流路とを持ち陰極と陽極の間にDCア-クプラズマを形成し原料ガスを分解し活性化することができるプラズマト-チであって陰極として使用される1以上の陰極ト-チと、一定方向に向かってガスを噴出するノズルを有し陽極として使用され前記陰極ト-チ以上の数の陽極ノズルと、炭素を含む原料ガスまたは炭素を含む原料ガスと水素を供給するためのガス供給ノズルとを有し、該陰極ト-チの先端と該陽極ノズルの先端との相対位置を可変とし、陰極ト-チの軸心線と陽極ノズルのガス吹き出し方向が同一直線上に並ばず平行にもならないように配置し、まず前記の陰極ト-チの内部の陰極と陽極の間に電圧を印加し、ガス流路には不活性ガスまたは不活性ガスと水素との混合ガスを流し、陰極ト-チの内部に非移行式のDCプラズマジェットを発生させ、陽極ノズルに不活性ガスを流し、陽極ノズルの先端を陰極ト-チから生じているプラズマジェットに接触させた後、陰極ト-チの陽極と陽極ノズルとを同電位とし陰極ト-チ陰極と陽極ノズルの間に電圧を印加するようにし、その後陰極ト-チの陽極を陽極ノズルから絶縁し、陰極トーチと陰極と陽極ノズルの間で移行式の外部アークプラズマを形成し、その後陰極ト-チ先端と陽極ノズル先端との間隔を拡げるように陽極ノズルと陰極ト-チを移動させてアークプラズマの形成領域を拡大し、さらにひとつまたは複数の陰極ト-チと、複数の陽極ノズルの間のプラズマジェットを合流合体させて、均一で大きなプラズマジェットを形成し、炭素を含む原料ガスあるいは炭素を含む原料ガスと水素とをガス供給ノズルから前記合流合体させたプラズマジェットに向けて供給し、該プラズマジェットの下流側に置いた基材にプラズマジェットを吹き付けて基材表面にダイヤモンドを合成する事を特徴とするダイヤモンドの製造法。
IPC (2件):
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