特許
J-GLOBAL ID：200903020987031189
屈折率分布型光学素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-274058
公開番号（公開出願番号）：特開平8-133752
出願日： 1994年11月08日
公開日（公表日）： 1996年05月28日
要約：
【要約】【目的】 屈折率修飾成分として金属塩を利用するゾル・ゲル法によりM型分布の屈折率分布型光学素子を安定して作製する。【構成】 屈折率に2つの極大値と1つの極小値を有するM型分布の屈折率分布型光学素子を製造するにあたり、ゾル・ゲル法により作製したシリコン以外の少なくとも1種の金属成分を含有したゲルを作製する。そのゲルを、金属成分に濃度分布を付与する工程または金属成分の濃度分布を固定する工程のうち少なくとも1つの工程において乳酸を含有する溶液中に浸漬する。その後、乾燥、焼成する。
請求項（抜粋）：
屈折率に2つの極大値と1つの極小値を有する屈折率分布型光学素子を製造するにあたり、シリコン以外の少なくとも1種の金属成分を含有したゲルをゾルゲル法により作製する工程と、乳酸を含有する溶液に前記ゲルを浸漬する浸漬工程と、前記浸漬工程後にゲルを乾燥、焼成する工程とを有する屈折率分布型光学素子の製造方法。
IPC (5件)：
C03B 8/02
, C03C 21/00
, G02B 3/00
, G02B 6/00 356
, G02B 6/18
