特許
J-GLOBAL ID:200903020994379093
走査トンネル顕微鏡用探針の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
池内 寛幸 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-166870
公開番号(公開出願番号):特開平5-010753
出願日: 1991年07月08日
公開日(公表日): 1993年01月19日
要約:
【要約】【目的】曲率半径が小さく、機械的共振周波数の大きい走査トンネル顕微鏡用探針の製造方法を提供する。【構成】シリコン基板10の(111)面に、シリコンと合金を形成する金の薄膜11を形成する。続いて、珪素化合物を含む雰囲気中でシリコン基板を前記合金の融点以上に加熱することにより、シリコンの柱状突起物13を結晶成長させる。さらにシリコンの柱状突起物13のエッチングにより先端部を先鋭化することにより、探針14を製作する。
請求項(抜粋):
シリコン基板表面をエッチングすることによりシリコンの突起物を作製する第1の工程と、1050°C以下の温度で前記突起物の表面を熱酸化し、続いて前記突起物表面に形成された酸化物を除去する第2の工程とからなる走査トンネル顕微鏡用探針の製造方法。
IPC (3件):
G01B 21/30
, C23F 1/40
, G01B 7/00
前のページに戻る