特許

J-GLOBAL ID：200903020998500059

排ガスの除害装置及びその除害方法、電子デバイスの製造システム

発明者： 小野 美智輝
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 森 哲也 ,  内藤 嘉昭 ,  崔 秀▲てつ▼
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-143434
公開番号（公開出願番号）：特開2005-324102
出願日： 2004年05月13日
公開日（公表日）： 2005年11月24日
要約：

【課題】 排ガスにおける除害率の向上できるようにした排ガスの除害装置及びその除害方法、電子デバイスの製造システムを提供する。【解決手段】 半導体処理装置90から排出される排ガスを除害処理する除害装置100であって、半導体処理装置90から排出された排ガスを流す排管10と、この排管10に接続して排ガス中の有害成分を無害化する第1スクラバー21、反応筒30、第2スクラバー22及び出口水スクラバー23と、半導体処理装置90の処理条件に基づいて反応筒30内の熱処理温度をフィードフォワード制御するヒーターコントロールユニット50と、を備えたものである。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

所定の製造装置から排出される排ガスを除害処理する除害装置であって、 前記製造装置から排出される前記排ガスを流す排管と、 前記排管に接続して前記排ガス中の有害成分を無害化する除害処理ユニットと、 前記製造装置の処理条件に基づいて前記除害処理ユニットの除害処理条件をフィードフォワード制御する制御部と、を備えたことを特徴とする排ガスの除害装置。

IPC (5件)：

B01D53/70 ,  B01D53/48 ,  B01D53/68 ,  B01D53/77 ,  B01D53/86

FI (4件)：

B01D53/34 134E ,  B01D53/36 G ,  B01D53/34 121D ,  B01D53/34 134D

Fターム (23件)：

4D002AA01 ,  4D002AA22 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA12 ,  4D002BA14 ,  4D002BA20 ,  4D002CA01 ,  4D002CA07 ,  4D002DA35 ,  4D002DA70 ,  4D002EA02 ,  4D002GA01 ,  4D002GA02 ,  4D002GA04 ,  4D002GA05 ,  4D002GB03 ,  4D002GB20 ,  4D048AA11 ,  4D048AB03 ,  4D048CA01 ,  4D048CC38 ,  4D048CD02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 触媒式排ガス処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-074724   出願人：トリニティ工業株式会社, キャタラー工業株式会社