特許
J-GLOBAL ID:200903021006398696

電子線照射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 奥山 尚一 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-141761
公開番号(公開出願番号):特開2002-341096
出願日: 2001年05月11日
公開日(公表日): 2002年11月27日
要約:
【要約】【課題】 多量のパージガスを使用することなく電子線照射部の酸素濃度を十分に低下させることができる電子線照射装置を提供する。【解決手段】 走行する帯材3に対して連続的に電子線を照射するとともに、電子線の照射部に不活性ガスをパージガスとして噴射するように構成された電子線照射置である。電子線照射部2を基準とする帯材3の走行路の上流側位置および下流側位置に、帯材3に向かって空気を噴出する第1および第2の空気噴出ノズル5,6を備える。第1、第2の空気噴出ノズル5,6は、それらから噴出される空気が前記帯材に近づくほど前記電子線照射部から遠ざかるようにその噴射方向が設定されている。
請求項(抜粋):
走行する帯材に対して連続的に電子線を照射するとともに、前記電子線の照射部に不活性ガスをパージガスとして噴射するように構成された電子線照射置であって、前記電子線照射部を基準とする前記帯材の走行路の上流側位置および下流側位置に、前記帯材に向かって空気を噴出する第1および第2の空気噴出ノズルをそれぞれ配設し、前記第1、第2の空気噴出ノズルは、それらから噴出される空気が前記帯材に近づくほど前記電子線照射部から遠ざかるようにその噴射方向が設定されていることを特徴とする電子線照射装置。
IPC (5件):
G21K 5/00 ,  B05B 1/04 BBU ,  B41F 23/04 ,  G21K 5/04 ,  B41J 29/00
FI (5件):
G21K 5/00 B ,  B05B 1/04 BBU ,  B41F 23/04 Z ,  G21K 5/04 E ,  B41J 29/00 H
Fターム (8件):
2C020CC00 ,  2C061BB27 ,  2C061CK01 ,  4F033BA01 ,  4F033CA05 ,  4F033DA02 ,  4F033EA02 ,  4F033NA01

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