特許

J-GLOBAL ID：200903021014879695

プリコート膜の形成方法、成膜装置のアイドリング方法、載置台構造及び成膜装置

発明者： 若林 哲 ,  長谷川 敏夫
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-327059
公開番号（公開出願番号）：特開2001-144033
出願日： 1999年11月17日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】 プリコート膜を安定化させることにより、アイドリング期間であっても載置台の温度を下げる必要がなく、これによりスループットを向上させることができるプリコート膜の形成方法を提供する。【解決手段】 載置台構造のプリコート膜の形成方法において、被処理体Wを載置するための載置台16を有する載置台構造18を内部に有する成膜装置内に処理ガスを流してTiN膜よりなるプリコート膜22を前記載置台の表面に堆積させる堆積工程と、前記載置台を前記堆積工程の温度よりも高い温度に維持しつつNH3 (アンモニア)含有ガスに晒して前記プリコート膜を安定化させる安定化工程とを有する。これにより、プリコート膜を安定化させることにより、アイドリング期間であっても載置台の温度を下げる必要がなく、これによりスループットを向上させることができる。

請求項（抜粋）：

載置台構造のプリコート膜の形成方法において、被処理体を載置するための載置台を有する載置台構造を内部に有する成膜装置内に処理ガスを流してTiN膜よりなるプリコート膜を前記載置台の表面に堆積させる堆積工程と、前記載置台を前記堆積工程の温度よりも高い温度に維持しつつNH3 (アンモニア)含有ガスに晒して前記プリコート膜を安定化させる安定化工程とを有することを特徴とするプリコート膜の形成方法。

IPC (4件)：

H01L 21/285 ,  H01L 21/285 301 ,  C23C 16/34 ,  H01L 21/68

FI (4件)：

H01L 21/285 C ,  H01L 21/285 301 R ,  C23C 16/34 ,  H01L 21/68 N

Fターム (21件)：

4K030AA03 ,  4K030AA13 ,  4K030AA14 ,  4K030AA18 ,  4K030BA18 ,  4K030BA38 ,  4K030CA17 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030HA01 ,  4K030KA08 ,  4K030KA47 ,  4K030LA15 ,  4M104DD44 ,  4M104HH20 ,  5F031CA02 ,  5F031HA03 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA32 ,  5F031PA26