特許

J-GLOBAL ID：200903021019115855

基板の洗浄方法および基板洗浄装置

発明者： 青木 秀充
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 高橋 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-185035
公開番号（公開出願番号）：特開2000-015196
出願日： 1998年06月30日
公開日（公表日）： 2000年01月18日
要約：

【要約】【課題】 従来使用されていた洗浄液において基準の洗浄効果を得るための洗浄液の濃度は比較的高く、基板又はシリコンウエハの大型化やアスペクト比の高率化への傾向が高まる中で、洗浄液の使用量の増大に伴い廃液の量も増加するため、その浄化処理に費やされる労力及び費用の負担の大きなものであった。【解決手段】 基板の洗浄工程において、過酸化水素水とアルカリ性溶液又は酸性溶液と純水とを混合して洗浄液とし、この混合した洗浄液に紫外線を照射して照射洗浄液とし、この照射直後に照射洗浄液で基板を洗浄する。

請求項（抜粋）：

基板の洗浄方法において、過酸化水素水とアルカリ性溶液と純水とを混合して洗浄液とし、この混合した洗浄液に紫外線を照射して照射洗浄液とし、この照射直後に前記照射洗浄液で前記基板を洗浄する工程を備えたことを特徴とする基板の洗浄方法。

IPC (9件)：

B08B 3/08 ,  C11D 7/06 ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/60 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304 648

FI (9件)：

B08B 3/08 A ,  C11D 7/06 ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/60 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 642 E ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 647 Z ,  H01L 21/304 648 G

Fターム (23件)：

2H096AA25 ,  2H096CA01 ,  3B201AA03 ,  3B201AB42 ,  3B201BB02 ,  3B201BB05 ,  3B201BB24 ,  3B201BB33 ,  3B201BB62 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201BC01 ,  4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003DC02 ,  4H003DC04 ,  4H003EA03 ,  4H003EA05 ,  4H003EA23 ,  4H003ED02 ,  4H003EE04 ,  4H003FA28

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-179225