特許

J-GLOBAL ID：200903021019287680

基板処理装置

発明者： 大谷 正美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-043506
公開番号（公開出願番号）：特開平10-242101
出願日： 1997年02月27日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】 スローリーク機能を有する固定型の処理液供給手段を備え、吐出した純水を回収してコストを抑えることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 カップ20が上昇した状態の基板処理時にはスプラッシュガード220が純水回収トレイ50と純水回収ポット60との間を遮断し、ノズル10は純水DIWを噴射して基板W上面に大量に供給する。逆にカップ20が降下した状態の基板処理時以外では純水回収トレイ50と純水回収ポット60との間からスプラッシュガード220が退避した状態となって吐出した純水DIWが純水回収トレイ50から純水回収ポット60に至るのを阻害せず、その間、ノズル10は少量の純水DIWを吐出する。吐出された純水DIWは純水回収ポット60から純水回収チューブ70を経由して、図示しない装置外の回収槽に貯留された後、浄化装置において浄化され、再度純水供給機構に戻され再利用される。

請求項（抜粋）：

略水平に保持された基板に処理液を供給して所定の基板処理を行う基板処理装置であって、前記基板よりも高い位置に配置した処理液吐出口から斜め下方向に処理液を吐出して前記基板上に供給し、それによって前記所定の基板処理を行う処理液供給手段と、前記処理液吐出口の下方に配置されてなり、前記所定の基板処理の期間中における吐出量よりも小量の処理液が前記処理液吐出口から下方に吐出されているときに、当該処理液を前記処理液吐出口の下方で受けて所定の処理液回収経路に向けて排出する処理液受け部材と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 351

FI (2件)：

H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 351 S